使用電腦輔助設計早已是高科技產品研發與製程改良的主流，用對工具可讓研發人員在投入高成本的硬體製作前，先以電腦完成系統的最佳化實體設計，節省研發上測試製作的成本(Cost of Try and Error Down)，同時節省大量研發人員的寶貴時間，縮短研發時程，大大強化基礎研發能量與提昇產業競爭力，可更有效率地領先競爭者一步，將產品順利導入市場。本課程主要針對粒子式電漿電磁模擬軟體VSim作一基礎性的介紹及簡易使用操作練習，最新版VSim12.2已於2023年9月在美國正式發行，使用最新整合的使用者介面，應用上幾乎可涵蓋所有電漿電磁現象及應用的研究探討與輔助設計開發，例如，雷射電漿交互作用、熱電子發射、光電效應、場發射元件、光子晶體、微波器件(波導、共振腔、天線、微波管)、DC Discharge、RF Discharge、氣體游離放電、二次電子、ICP、CCP、微波電漿鍍膜、MPECVD、磁控濺鍍(Magnetron Sputtering)及蝕刻(Etching)等電漿製程；可以加速研究的進行與降低研發成本並加速產業升級、適合對建立電漿電磁模擬能量有興趣但不知如何著手者或已熟悉MAGIC與XOOPIC的使用者與VSim/Vorpal的現有使用者。
